匀胶铬版
产品介绍
匀胶铬版是在高洁净度的基版上,利用直流磁控溅射技术,沉积上氮氧化铬-氮化铬-氮氧化铬薄膜,再利用spin涂覆匀胶技术涂上一层光刻胶制作而成,是微细加工光掩膜版制作的感光材料。主要应用于:
新型平板显示器件(LCD-STN、LCD-CSTN、LCD-TFT、CF、OLED、TP、PDP等)
集成电路(LSI、VLSI及TR、Discrete Devices、LED、MEMS、IC-Bumping)
精细光学行业(光学器件、编码器、校正板、光栅)
线路板相关(PCB-HDI、FPC、Lead Frame)
产品实物
产品应用领域